发布时间:2022-07-14 阅读次数:475 来源:区科创中心
政策类别 | 知识产权类 | 发文字号 | / |
发文单位 | 区科创中心 | 官网发布日期 | 2022年7月7日 |
主管部门 | 区科创中心 | 受理时间 | 于7月29日(周五)前 |
受理部门 | 区科创中心 | 截止日期 | 于7月29日(周五)前 |
办理及协调部门 | 区科创中心 | 政策覆盖区域 | 经开区 |
联系电话 | 84735838 | 关键词 | 知识产权资助(奖励)资金 |
官网链接 | http://www.whkfq.gov.cn/xxgk/fdzdgk/tzgg/202207/t20220707_2001591.html |
内容详情
各园区、各有关单位:
根据《国家知识产权局关于进一步严格规范专利申请行为的通知》(国知发保字〔2021〕1号)、《武汉经开区进一步促进知识产权高质量发展办法》(武经开规〔2021〕9号)》,现启动上年度(2021年)武汉经开区(汉南区)知识产权资助(奖励)资金申报工作,现将有关事项通知如下:
第一部分 资助(奖励)对象、标准和申报所需材料
申报以下各类奖项的单位需提供以下共性材料:
1、主体资格证明,申报单位需提供统一社会信用代码证(或“一照一码”营业执照)。
2、法定代表人的身份证明。
所有申报材料中的主体资格证明(多个申请人的以第一申请人为准)、身份证明、各类证书、发票、收据以及其他相关证明文件等(除申报表外)均只需提交复印件。同时,各申报单位均需准备原件备查。
一、激励知识产权创造
(一)对上年获得国内外发明专利授权(包括通过PCT及其他途径在境外获得授权的发明专利)的单位,给予其获得该专利权所缴纳的官方规定费用50%的资助。已获得国家、省、市资助的,不再进行重复资助。
1、资助时段:2021年1月1日至2021年12月31日。
2、申报材料:
(1)国内外专利证书首页或授权通知书;
(2)缴纳官方费用的发票(国外不提供发票的,需提供收据);
(3)《武汉经济技术开发区(汉南区)国内外发明专利资助申报表》。
(二)对上年获得中国专利金奖、银奖、优秀奖的单位分别给予100万元/项、20万元/项、10万元/项的奖励,对上年获得中国外观设计金奖、银奖、优秀奖的单位分别给予20万元/项、10万元/项、5万元/项的奖励;对上年获得省政府专利金奖、银奖、优秀发明人奖的单位分别给予20万元/项、10万元/项、10万元/项的奖励;对上年获得省高价值专利大赛金奖、银奖、优秀奖的单位分别给予10万元/项、5万元/项、3万元/项的奖励。获得以上奖励的单位可适当对获奖专利发明人给予奖励。
1、资助时段:2021年1月1日至2021年12月31日。
2、申报材料:
(1)获得上述奖项的相关证明材料;
(2)《武汉经济技术开发区(汉南区)专利奖奖励申报表》。
(三)对上年新获得国家主管部门纳入“驰名商标”保护的单位,一次性给予100万元奖励;对上年按照《商标国际注册马德里协议》一次在5个及以上国家成功注册商标的企业,按1000元/件给予奖励;对连续两年推动商标品牌建设并加以运用推广,且拥有有效注册商标量达到50件、100件、200件的企业,一次性分别给予3万元、5万元、10万元的奖励。
1、资助时段:2021年1月1日至2021年12月31日。
2、申报条件:
(1)按照《商标国际注册马德里协议》一次性在5个及以上国家成功注册的商标为一件商标;
(2)连续两年推动商标品牌建设并加以运用推广的时间段是指截至2021年12月往前倒推24个月(两年)。
3、申报材料:
(1)国家主管部门认定为中国驰名商标的证明材料;
(2)世界知识产权组织国际局颁发的《国际商标注册证》或者其他等同的授权材料;
(3)截至2021年12月往前倒推24个月(两年)连续推动商标品牌推广运用的相关证明材料以及50件以上的《商标注册证》;
(4)《武汉经济技术开发区(汉南区)商标奖励申报表》。
备注:在此政策执行期间,同一企业针对此条款(对连续两年推动商标品牌建设并加以运用推广,且拥有有效注册商标量达到50件、100件、200件的企业,一次性分别给予3万元、5万元、10万元的奖励。)最高奖励不超过10万元。
(四)对上年以集体商标或者证明商标形式成功注册地理标志的单位,一次性奖励10万元;对规范使用地理标志专用标志并设有产品专用包装的持证单位,正常经营期间,每年给予3万元的奖励。对上年获得省地理标志大赛金奖、银奖、优秀奖的单位分别给予5万元/项、3万元/项、1万元/项的奖励。
1、资助时段:2021年1月1日至2021年12月31日。
2、申报材料:
(1)国家主管部门颁发的成功注册地理标志的相关证明材料;
(2)地理标志专用标志的专用包装设计图、制作包装费用的发票以及包装实物图片或照片等相关证明材料;
(3)获得省地理标志大赛奖项的相关证明材料;
(4)武汉经济技术开发区(汉南区)地理标志奖励申报表》。
(五)对上年进行集成电路布图设计登记的企业,给予2000元/件的奖励。
1、资助时段:2021年1月1日至2021年12月31日。
2、申报材料:
(1)集成电路布图设计登记证书;
(2)《武汉经济技术开发区(汉南区)集成电路布图设计登记奖励申报表》。
(六)对上年主持制(修)定国际标准、国家标准、行业标准、地方标准、团体标准中融合了标准必要专利的单位,每项分别一次性给予100万元、60万元、40万元、20万元、10万元的奖励。
1、资助时段:2021年1月1日至2021年12月31日。
2、申报条件:
(1)申报单位的专利作为标准必要专利的国际标准、国家标准、行业标准、团体标准就现行有效,标准的发布时间为2021年1月1日至2021年12月31日;
(2)标准必要专利应是已授权并为有效状态,且申报主体为该专利第一专利人。
3、申报材料:
(1)国际标准:
①发布的含有标准必要专利的标准文本;
②发布平台(国际标准发布组织官网如:https://www.iso.org;https://www.iec.ch;https://www.itu.int)的专利信息;
③相关专利证书复印件。
(2)国家标准/行业标准/地方标准:
①发布的含有标准必要专利的标准文本;
②已披露的专利清单;
③相关专利证书复印件。
(3)团体标准:
①发布的含有标准必要专利的标准文本(全文公开);
②发布平台(全国团体标准信息平台http://www.ttbz.org.cn)的专利信息;
③标准必要专利的实施证明材料(原则上不少于5家);
④相关专利证书复印件。
(4)《武汉经济技术开发区(汉南区)标准必要专利奖励申报表》。